导读:8月1日,中国科学院发布《关于公布2021年中国科学院院士增选初步候选人名单的公告》。《公告》显示,2021年中国科学院院士增选通信评审工作已经结束,2021年中国科学院院士增选初步候选人 共191人,今年还首次公开了院士推荐人姓名和渠道。 其中数学物理学部... 8月1日,中国科学院发布《关于公布2021年中国科学院院士增选初步候选人名单的公告》。《公告》显示,2021年中国科学院院士增选通信评审工作已经结束,2021年中国科学院院士增选初步候选人共191人,今年还首次公开了院士推荐人姓名和渠道。 其中数学物理学部35人,化学部29人,生命科学和医学学部36人,地学部27人,信息技术科...... Last article READ

中国芯片现状全方位解析:光刻机差距大,但封测领域走在世界前列

导读:在整个半导体产业链中,EDA、制造、和关键设备如光刻机和世界先进水平差距较大;设计方面,移动处理器与国际先进水平差距较小,桌面CPU,GPU等与国际差距明显,部分细分领域也较为落后。封测领域走在世界前列。 存储芯片的设计和制造也比较薄弱,但也不乏亮…

在整个半导体产业链中,EDA、制造、和关键设备如光刻机和世界先进水平差距较大;设计方面,移动处理器与国际先进水平差距较小,桌面CPU,GPU等与国际差距明显,部分细分领域也较为落后。封测领域走在世界前列。

存储芯片的设计和制造也比较薄弱,但也不乏亮点,模拟芯片国内发展的相对成熟,国产替代化正在加速!

EDA(Electronic Design Automation)

EDA领域三大巨头,Synopsys、Cadence 和西门子旗下的 Mentor Graphics ,占了全球65%左右的份额,而在国内这三家的份额更是占到了95%以上,可以说处于绝对的垄断地位。

中国芯片现状全方位解析:光刻机差距大,但封测领域走在世界前列

全球市场占有率

Synopsys(新思科技)

成立于1986年,总部位于美国硅谷,是全球排名第一的电子设计自动化(EDA) 解决方案提供商。2018年,新思科技在EDA行业市场占有率在32.1%左右。

Synopsys的EDA软件覆盖了IC的整个流程,并且性能非常强大。

中国芯片现状全方位解析:光刻机差距大,但封测领域走在世界前列

来源:新思官网

Cadence(楷登电子,也译作铿腾电子)

在1988年由SDA与ECAD两家公司合并而成,总部位于美国加州圣何塞(San Jose)。Cadence产品涵盖了电子设计的整个流程,包括系统级设计、功能验证、集成电路综合及布局布线、IC物理验证、模拟混合信号及射频集成电路设计、全定制集成电路设计、PCCE设计和硬件仿真建模等。2018年Cadence在EDA全球占有率大概为22%

Mentor Graphics(明导国际,西门子旗下)

Mentor是全球著名的EDA工具厂商,提供芯片与系统开发所需的各种设计、仿真与制造工具,与Synopsys和Cadence并称全球三大EDA公司。其2015年营收在12亿美元左右,营运利润约为20.2%,现在全球有5700名员工。

Mentor 除EDA工具外,还具备非常多助力汽车电子厂商的产品,包括嵌入式软件等。Mentor 的策略是在主业即EDA工具方面持续加强自主研发,每年30%的销售收入作为科研经费投入。在EDA工具中,硬件仿真器以24%的速率保持超高速率成长。

2016 年 11 月,西门子公司以 45 亿美元收购Mentor Graphics。

在国内的EDA公司中,华大九天是目前国内规模最大、技术实力最强的EDA龙头企业。可提供模拟/数模混合IC设计全流程解决方案、数字SoC IC设计与优化解决方案、晶圆制造专用EDA工具和平板显示(FPD)设计全流程解决方案。但其在性能和先进工艺的支持上,显然无法和三大巨头抗衡。

其余的EDA公司,芯华章,芯禾科技,广立微,概伦电子,若贝,芯愿景等都只在某一环节做支持或者优化,竞争力比较弱。

EDA企业的发展是和芯片设计公司相互依赖的,在技术的快速迭代中不断修复EDA的bug以及提升性能,从而形成良性循环。而想短期内靠大量的资金投入以及人才投入来改变国内EDA现状是比较困难的。

结合国内EDA人才短缺以及EDA公司产品比较零散的现状,未来加大在EDA人才方面的培养,以及EDA企业之间加强合作或者国内EDA公司进行整合,也许是将来发展出路。想要在国际拥有竞争力,首先脚踏实地攻克全流程的解决方案,再去逐步的缩小与国际的差距。EDA将来很可能会被卡脖子,所以不能掉以轻心。

芯片制造

在芯片制造方面,国内最先进的是中芯国际的14nm工艺,而三星和台积电5nm已经量产,差距在3代左右。

中国芯片现状全方位解析:光刻机差距大,但封测领域走在世界前列

来源:国元证券、亿欧整理

在制造工艺的关键设备光刻机方面,与国际先进水平差距非常大。国内最先进的光刻机为上海微电子装备(SMEE)的可制造90nm工艺制程的DUV(ArF 193nm光源)光刻机。

高端光刻机技术被荷兰ASML公司垄断,其最先进的光刻机为光源波长13.5nm的极紫外光刻机(EUV)。可满足5nm、3nm工艺的芯片制造。

IC设计

逻辑计算芯片

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导读:随着《国家宝藏》、《如果国宝会说话》等节目的火爆,不仅有很多人关注文物,还会有人专门去各地博物馆打卡。其实这些节目中也会使用到全息投影技术,因此来为用户带来更加新奇的体验。 大部分节目舞台中都会使用纱幕全息投影技术,选择一些密度大、较为薄的... 随着《国家宝藏》、《如果国宝会说话》等节目的火爆,不仅有很多人关注文物,还会有人专门去各地博物馆打卡。其实这些节目中也会使用到全息投影技术,因此来为用户带来更加新奇的体验。 大部分节目舞台中都会使用纱幕全息投影技术,选择一些密度大、较为薄的纱质,在较暗的环境下使用,就很难看清纱幕了,仿佛影像就是凭空出现一般,以此在舞台上呈现,给人视觉上的冲击力......Next article READ

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