­  中新网7月4日电 据民政部网站消息,7月3日,财政部、民政部向浙江、江西、湖南、贵州4省安排7亿元中央财政自然灾害生活补助资金,用于近期严重暴雨洪涝灾害受灾群众紧急转移安置、过渡期生活救助、倒损民房恢复重建补助和向因灾遇难人员家属发放抚慰金,支持做好受灾群众生活救助工作。­  6月26日,受持续暴雨影响,浙江兰溪汛情严重,浙江省绍兴军分区迅速集结越城区柯桥区诸暨市应急分队,跨区救援兰溪。中新社发 夏先龙 摄­  此前,国家减灾委、民政部针对浙江、江西、湖南、贵州4省严重暴雨洪涝灾害先后启动国家Ⅳ级救灾应急响应,分别派出工作组赶赴灾区查看灾情,向4省灾区紧急调拨33...... Last article READ

中国芯片近况全方位理会:光刻机差距大,但封测规模走活着界前列

导读:在整个半导体财富链中,EDA、制造、和要害设备如光刻机和世界先历程度差距较大;设计方面,移动处理惩罚器与国际先历程度差距较小,桌面CPU,GPU等与国际差距明明,部门细分规模也较为落伍。封测规模走活着界前列。 存储芯片的设计和制造也较量单薄,但也不乏亮…

在整个半导体财富链中,EDA、制造、和要害设备如光刻机和世界先历程度差距较大;设计方面,移动处理惩罚器与国际先历程度差距较小,桌面CPU,GPU等与国际差距明明,部门细分规模也较为落伍。封测规模走活着界前列。

存储芯片的设计和制造也较量单薄,但也不乏亮点,模仿芯片海内成长的相对成熟,国产替代化正在加快!

EDA(Electronic Design Automation)

EDA规模三大巨头,Synopsys、Cadence 和西门子旗下的 Mentor Graphics ,占了全球65%阁下的份额,而在海内这三家的份额更是占到了95%以上,可以说处于绝对的把持职位。

中国芯片近况全方位理会:光刻机差距大,但封测规模走活着界前列

全球市场占有率

Synopsys(新思科技)

创立于1986年,总部位于美国硅谷,是全球排名第一的电子设计自动化(EDA) 办理方案提供商。2018年,新思科技在EDA行业市场占有率在32.1%阁下。

Synopsys的EDA软件包围了IC的整个流程,而且机能很是强大。

中国芯片近况全方位理会:光刻机差距大,但封测规模走活着界前列

来历:新思官网

Cadence(楷登电子,也译作铿腾电子)

在1988年由SDA与ECAD两家公司归并而成,总部位于美国加州圣何塞(San Jose)。Cadence产物涵盖了电子设计的整个流程,包罗系统级设计、成果验证、集成电路综合及机关布线、IC物理验证、模仿殽杂信号及射频集成电路设计、全定制集成电路设计、PCCE设计和硬件仿真建模等。2018年Cadence在EDA全球占有率或许为22%

Mentor Graphics(明导国际,西门子旗下)

Mentor是全球著名的EDA东西厂商,提供芯片与系统开拓所需的各类设计、仿真与制造东西,与Synopsys和Cadence并称全球三大EDA公司。其2015年营收在12亿美元阁下,营运利润约为20.2%,此刻全球有5700名员工。

Mentor 除EDA东西外,还具备很是多助力汽车电子厂商的产物,包罗嵌入式软件等。Mentor 的计策是在主业即EDA东西方面一连增强自主研发,每年30%的销售收入作为科研经费投入。在EDA东西中,硬件仿真器以24%的速率保持超高速率生长。

2016 年 11 月,西门子公司以 45 亿美元收购Mentor Graphics。

在海内的EDA公司中,华大九天是今朝海内局限最大、技能实力最强的EDA龙头企业。可提供模仿/数模殽杂IC设计全流程办理方案、数字SoC IC设计与优化办理方案、晶圆制造专用EDA东西僻静板显示(FPD)设计全流程办理方案。但其在机能和先进工艺的支持上,显然无法和三大巨头抗衡。

其余的EDA公司,芯华章,芯禾科技,广立微,概伦电子,若贝,芯愿景等都只在某一环节做支持可能优化,竞争力较量弱。

EDA企业的成长是和芯片设计公司彼此依赖的,在技能的快速迭代中不绝修复EDA的bug以及晋升机能,从而形成良性轮回。而想短期内靠大量的资金投入以及人才投入来改变海内EDA近况是较量坚苦的。

团结海内EDA人才短缺以及EDA公司产物较量零星的近况,将来加大在EDA人才方面的造就,以及EDA企业之间增强相助可能海内EDA公司举办整合,也许是未来成长出路。想要在国际拥有竞争力,首先量力而行攻陷全流程的办理方案,再去慢慢的缩小与国际的差距。EDA未来很大概会被卡脖子,所以不能掉以轻心。

芯片制造

在芯片制造方面,海内最先进的是中芯国际的14nm工艺,而三星和台积电5nm已经量产,差距在3代阁下。

中国芯片近况全方位理会:光刻机差距大,但封测规模走活着界前列

来历:国元证券、亿欧整理

在制造工艺的要害设备光刻机方面,与国际先历程度差距很是大。海内最先进的光刻机为上海微电子装备(SMEE)的可制造90nm工艺制程的DUV(ArF 193nm光源)光刻机。

高端光刻机技能被荷兰ASML公司把持,其最先进的光刻机为光源波长13.5nm的极紫外光刻机(EUV)。可满意5nm、3nm工艺的芯片制造。

IC设计

逻辑计较芯片

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  2021年8月10日湖北省新冠肺炎疫情环境   2021年8月10日0—24时,全省新增新冠肺炎确诊病例14例(均为本土确诊病例,荆门市7例,武汉市3例,黄冈市3例,鄂州市1例,均已转至定点医疗机构救治),新增疑似病例0例,新增出院病例0例,新增灭亡病例0例。   2021年8月10日0—24时,全省新增无症状传染者6例(本土5例,荆门市5例;境外输入1例,来自8月9日印度尼西亚雅加达—武汉JT2619航班),转确诊8例(均为本土无症状传染者转为确诊病例,荆门市4例,黄冈市3例,鄂州市1例),清除断绝0例;尚在会合断绝医学调查的无症状传染者78例(个中本......Next article READ

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